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产品介绍
NF-300H 是一款占有3个6站反映腔的高产能 PECVD 设备,是首款成功导入传感器 (CIS) 量产产线的国产沉积设备,重要利用于 CIS 和 HBM 的超厚介质填充。设备支持高温工艺, 可实现长功夫沉积需要的薄膜工艺,具备优良的颗=谠炷芰,所沉积薄膜在均匀性和应力节造方面阐发优异,在量产产能、工艺不变性等多项关键指标上实现技术突破,达到国际同类设备先进水平。
产品特点
- 适配沉积功夫需要长的薄膜工艺
- 具备优良的颗=谠旌陀α谠炷芰
- 高产能平台能够同时搭载3个6站反映腔