- 中文
- English
产品系列
-
产品介绍
产品介绍
NF-300H Astra 是一款高产能多站式 ALD 设备，将 ALD 工艺搭载在高产能 PECVD 平台，可搭载3个6站式反映腔，兼具高产能和坪效优势。产品可沉积高质量 SiO?（氧化硅）、SiN（氮化硅）等多种介质薄膜，通过精确的气体节造实现优异的薄膜均匀性、厚度及应力节造，充分阐扬 ALD 工艺的精杜纂保形性优势。该设备具备先进薄膜工艺迭代能力，宽泛利用于逻辑、存储及先进封装等芯片造作领域。
- 优异的薄膜均匀性和保形性
- 可搭载3个6站式反映腔
- 优异的出产成本（CoO）及机能指标
- 具备先进薄膜工艺迭代能力
