PP电子游戏

产品介绍

        随着逻辑与存储芯片造作中薄膜资料类型不休增长，设备必要具备更强的工艺扩大能力和多资料兼容能力。PF-300T eX 是一款面向28纳米及以下逻辑芯片和存储芯片造作的 PECVD 设备，聚焦多资料介质薄膜沉积需要，eX 反映腔在气体节造、射频响应、颗粒管控及工艺不变性上做了针对性强化，产品工艺覆盖高刻蚀选择比 ACHM 硬掩膜、低介电常数（Low-k）绝缘薄膜及NDC 刻蚀反对层、超低介电常数（ULK）薄膜，满足客户分歧技术节点需要。

产品特点
        - 可按客户需要配置1~3路液态源，支持多种先进工艺
        - 单机产能超过220 WPH，颗＝谠炷芰τ帕
        - 拥有优异的产能阐发与综合运营成本（CoO）
        - 支持 TSV 所需低温（<200℃）TEOS SiO?工艺
        - 通过 S2 安全认证和 F47 尺度检验