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产品介绍

TS-300 Altair系列是我公司自主研发的原子层沉积设备 ,ALD反映腔搭载在高产能的PECVD平台上 ,满足了对设备产能的需要 。现可提供高质量的Thermal ALD, 如AIN薄膜 ,并陆续开发薄膜工艺 。该产品选取PP电子游戏六边形平台 ,可搭配5个反映腔 ,拥有高产能和低颗粒度蹬着势 。


产品特点
- 六边形的高产能平台
- 可搭配多个反映腔 ,实现产能的优化配置
- 可沉积高质量的AIN薄膜
- ALD薄膜在高宽比(20:1)情况下台阶覆盖率可达到95%
- 通过S2安全认证和F47尺度检验

 
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