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产品介绍
PF-300T Plus PESAF 是一款次常压化学气相沉积(SACVD)设备,兼容 SACVD SiO?与 PETEOS 两种薄膜沉积工艺,聚焦先进造程中深邃宽比沟槽的介质填充。产品搭载 HF/LF 双频射频系统,具备优良的工艺适配性和缺点抑造能力;建设特殊加热卡盘,可不变处置翘曲度达500μm的晶圆。该产品是全国首款实现 PESAF 工艺量产利用的设备。
产品特点
- 深邃宽比沟槽填充能力杰出
- 兼容 SACVD SiO? 与 PETEOS 两种薄膜沉积工艺
- 可不变处置翘曲度达500μm的晶圆
- 可搭载双频射频系统